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江門市惠和永晟納米科技有限公司
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供應(yīng) 藍(lán)寶石CMP拋光液硅溶膠 /112926-00-8
規(guī)　　格：
價　　格：
 9.5/元/公斤
數(shù)　　量：
 1000 噸
　交貨地：
發(fā)布時間：
 2024-09-10
　有效期：
 255天
備　　注：
 藍(lán)寶石晶體(α-A12O3)是一種耐高溫、耐磨損、抗腐蝕和透光波段寬的優(yōu)質(zhì)光功能材料，它具有與Ⅲ族氮化物相同的六方密堆積型，是由物理、機械和化學(xué)特性三者獨特組合的優(yōu)良材料。


在光通信領(lǐng)域，藍(lán)寶石晶體不僅用作短波長有源器件，還用作偏振光的無源器件在微電子領(lǐng)域，藍(lán)寶石可以作為新一代半導(dǎo)體襯底SOI(絕緣層上)的襯底，由于藍(lán)寶石優(yōu)良的阻擋作用，能夠減小晶體管的電容效應(yīng)，其運算速度可變得更快，功耗變得更低。在光電子領(lǐng)域，藍(lán)寶石晶體是制造GaN發(fā)光二極管(LED)的首選襯底材料。在藍(lán)寶石襯底上生長薄膜之前，首先要去除切片時產(chǎn)生的劃傷、凹坑、應(yīng)力區(qū)等，然后要降低表面粗糙度。表面的粗糙度越大，表面的懸掛鍵越多，越容易吸附其他雜質(zhì)，并且與上面的薄膜有較差的晶格匹配。


傳統(tǒng)的純機械拋光是用拋光粉不斷地研磨被拋光材料的表面，容易產(chǎn)生較深的劃傷。而CMP（化學(xué)機械拋光）是在化學(xué)作用的環(huán)境下，通過機械作用將化學(xué)反應(yīng)物去除掉，提高了材料的去除速率，同時也得到良好的表面形態(tài)。
結(jié)構(gòu)式：
聯(lián)系方法
　聯(lián)系人：
 小顏
公　　司：
 江門市惠和永晟納米科技有限公司
地　　址：
 江門市鶴山沙坪街道鶴山堅美園35號之十二
電　　話：
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傳　　真：
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手　　機：
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Q Q：
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