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六甲基二硅氮烷 |
| CAS No.: |
999-97-3 |
| 分子式： |
C6H19NSi2 |
| 分子量： |
161.39 |
| 備注： |
中文名稱六甲基二硅氮烷中文同義詞1,1,1-三甲基-N-(三甲基甲硅烷基)硅烷胺;藥用硅氮烷;六甲基二硅氮烷;六甲基二硅烷胺;六甲基二硅亞胺;1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷電子級;六甲基二硅基胺;1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷英文名稱Hexamethyldisilazane英文同義詞((CH3)3Si)2NH;1,1,1,3,3,3-hexamethyl-disilazan;1,1,1-trimethyl-n-(trimethylsilyl)-silanamin;BIS(TRIMETHYLSILYL)AMINE;HMDS;hexamethyldisilizane;HEXAMETHYLDISILYLAMINE;HEXAMETHYLDISILAZANECAS號999-97-3分子式C6H19NSi2分子量161.39EINECS號213-668-5相關類別硅化合物;烷基硅烷;中間體;化工產(chǎn)品-有機化工;其他生化試劑;有機原料;化工原料;有機化工原料;硅烷試劑;有機硅;有機金屬試劑;其它硅烷;PharmaceuticalIntermediates;Organics;BlockingAgents;ProtectiveAgents;SilylatingAgents;APIIntermediate;有機化工;醫(yī)藥原料;工業(yè)原料;特種有機合成。阿米卡星、盤尼西林、頭孢霉素、氟尿嘧啶及各種青霉素衍生物等合成過程中的甲硅烷基化;醫(yī)藥類;有機化工原料;化工原料-塑料類;中間體類;有機硅烷;烴類;化工材料;增粘劑;精細化工原料;化工原料-表面活性劑;六甲;有機中間體;硅油;有機原料;AnalyticalChemistry;Biochemistry;GCDerivatizingReagents;Nucleosides,Nucleotides&RelatedReagents;ProtectingAgentsforHydroxylandAminoGroups;ProtectingAgents,PhosphorylatingAgents&CondensingAgents;Si(ClassesofSiliconCompounds);Silazanes;SiliconCompounds(forSynthesis);Silylation(GCDerivatizingReagents);Si-NCompounds;SyntheticOrganicChemistry;Trimethylsilylation(GCDerivatizingReagents);organosiliconcompound;ChemicalSynthesis;OrganometallicReagents;Organosilicon;MaterialsforSurfaceModification;SubstratesandElectrodeMaterials;ElectronicChemicals;MaterialsScience;Micro/NanoElectronics;OrganicandPrintedElectronics;SemiconductorGradeChemicals;1Mol文件999-97-3.mol結(jié)構(gòu)式六甲基二硅氮烷性質(zhì)熔點-78°C沸點125°C(lit.)密度0.774g/mLat25°C(lit.)蒸氣密度4.6(vsair)蒸氣壓20hPa(20°C)折射率n20/D1.407(lit.)閃點57.2°F儲存條件Storebelow+30°C.溶解度與丙酮、苯、乙醚、庚烷和全氯乙烯混溶。酸度系數(shù)(pKa)30(at25℃)形態(tài)液體顏色無色比重0.774氣味(Odor)氨氣味酸堿指示劑變色ph值范圍8.5爆炸極限值(explosivelimit)0.8-25.9%(V)水溶解性REACTS敏感性MoistureSensitive水解敏感性7:reactsslowlywithmoisture/waterMerck14,4689BRN635752InChIKeyFFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-NLChemicalbookogP0.23-1.19at20-25℃CAS數(shù)據(jù)庫999-97-3(CASDataBaseReference)NIST化學物質(zhì)信息Silanamine,1,1,1-trimethyl-N-(trimethylsilyl)-(999-97-3)EPA化學物質(zhì)信息Hexamethyldisilazane(999-97-3)六甲基二硅氮烷用途與合成方法有機硅化合物六甲基二硅氮烷，英文縮寫HMDS，一種重要的有機硅化合物，最常用來增加光刻膠在品圓表面附著力的底漆層，易燃且燃點為6.7℃，當在空氣中的濃度為0.8%-16%時具有爆炸性，HMDS會強烈地與水、酒精和礦物質(zhì)酸反應釋放出氨水NH3，生成六甲基二硅醚。在催化劑存在下，與醇或酚反應，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷。與無水氯化氫反應，放出NH3或NH4Cl，生成三甲基氯硅烷。光刻膠應用六甲基二硅氮烷(HMDS)底涂通常在應用光刻膠之前使用。1970年，IBM的RHCollins和FTDevers在美國專利3,549,368中首次描述了HMDS作為光刻膠粘合促進劑的用途。該工藝已從基于將晶圓浸入HMDS溶液中的做法逐步發(fā)展為基于蒸汽的過程。盡管可以通過旋涂將HMDS涂敷在晶圓上，但通常不推薦這樣做，因為HMDS厚層的蒸汽蒸發(fā)會在后期造成問題。最典型的HMDS應用在真空室中，該真空室將基板的加熱與暴露于HMDS蒸氣相結(jié)合。HMDS提高了光刻膠的附著力由于從環(huán)境濕度中吸收了一層水，硅晶片的表面通常是親水的。為了光刻膠的適當粘附，需要使表面更疏水以更好地匹配光刻膠的化學性質(zhì)。該過程的第一步稱為脫水烘烤。顧名思義，該步驟的目的是去除晶圓表面的水分。此步驟通常在真空中進行，需要大約140至160°C的溫度。如果不去除水層，則在后續(xù)顯影或化學蝕刻過程中存在光刻膠分層的風險。然而，在這一步之后，晶圓表面仍然是親水的，因為脫水使表面恢復到自然狀態(tài)。在原生狀態(tài)下，硅晶片的頂部有一層薄薄的天然氧化物，當暴露在大氣濕度下時會形成。在化學上，這被視為硅表面的OH基團。為了使光刻膠正確粘附，表面需要更疏水（防水）。脫水烘烤從晶圓表面去除多余的材料（即吸附的水），而HMDS處理將添加單層材料，使其對光刻膠更具吸引力。脫水烘烤后，表面暴露于蒸汽HMDS，通常在設置為130至160°C的熱底漆烘箱中。晶圓表面的OH基團會與HMDS的甲基發(fā)生反應，從而使表面更加疏水。表面會更好地與光刻膠的化學成分相匹配，但也不易吸水。危險性六甲基二硅氮烷是主危3類副危6.1類/8類的危險貨物，具有以下危險性質(zhì)：易燃液體和蒸氣，吞咽有害、皮膚接觸會中毒，吸入會中毒。其蒸氣與空氣可形成爆炸性混合物，遇明火、高熱極易燃燒爆炸，爆炸極限范圍0.8%-16.3%。與氧化劑接觸猛烈反應。遇水和甲醇發(fā)生化學反應而分解。化學性質(zhì)無色透明易流動液體。沸點125℃，相對密度0.76（20/4℃）。溶于有機溶劑，與空氣接觸會迅速被水解生成三甲硅烷醇和六甲基二硅醚。閃點-1℃。用途六甲基二硅氮烷在有機硅氮烷化學中，可以用作與氯硅烷單體進行氯交換，從而獲得聚硅氮烷。這種方法比直接通氨法在合成上有巨大優(yōu)勢。用途用于生產(chǎn)橡膠、藥物、羥基及氨基保護劑、無機填料處理劑。該品是消減氣相色譜載體表面吸附活的減尾劑。特種有機合成。六甲基二硅氮烷是堿性硅烷化保護劑，用于西胺卡那霉素、阿米卡星、盤尼西林、頭孢霉素、氟尿嘧啶及各種青霉素衍生物等合成過程中的甲硅烷基化。硅藻土、白炭黑、鈦等粉末的表面處理。半導體工業(yè)中光致刻蝕劑的粘結(jié)助劑。生產(chǎn)方法將109g（1.0mol）三甲基氯硅烷溶于500ml無水乙醚，通入氨氣，立即出現(xiàn)白色沉淀。加熱至回流，慢慢通氨維持6h，使氯化銨沉降、過濾，取乙醚溶液先蒸出乙醚，再蒸出六甲基二硅氨烷，得52.5g，收率65%。類別易燃液體毒性分級中毒急性毒性口服-大鼠LD50:850毫克/公斤;口服-小鼠LDL0:850毫克/公斤可燃性危險特性遇明火、高溫、氧化劑易燃;遇水分解有毒硅化物氣體;燃燒產(chǎn)生有毒氮氧化物煙霧儲運特性庫房通風低溫干燥;與氧化劑、酸類分開存放滅火劑干粉、干砂、二氧化碳、泡沫、1211滅火劑 |
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聯(lián)系人： |
金經(jīng)理 |
地 址： |
湖北省武漢市東湖新技術開發(fā)區(qū)光谷大道03號 |
郵 編： |
430000 |
電 話： |
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