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二氟代氙 |
CAS No.: |
13709-36-9 |
分子式: |
F2Xe |
分子量: |
169.29 |
備注: |
中文名稱二氟代氙中文同義詞二氟代氙,99.5%(METALSBASIS);二氟代氙;二氟化氙XEF2;二氟代氙二氟化氙;雙氟氙英文名稱XENONDIFLUORIDE英文同義詞XENONDIFLUORIDE99%;XENONDIFLUORIDE,99.5+%;Difluoroxenon(II);Xenon(II)fluoride,99.5%;Xenon(II)fluoride,99+%;Xenondifluoride99.9%;xenonfluoride;XENON(II)DIFLUORIDECAS號(hào)13709-36-9分子式F2Xe分子量169.29EINECS號(hào)237-251-2相關(guān)類別化學(xué)品(Chemical);半導(dǎo)體制程材料;化工原料;氙同位素氣體;metalhalide;ElectronicChemicals;FluoridesSyntheticReagents;Micro/Nanoelectronics;C-XBondFormation(Halogen);Fluorination;SyntheticReagentsMol文件13709-36-9.mol結(jié)構(gòu)式二氟代氙性質(zhì)熔點(diǎn)129°C(lit.)沸點(diǎn)114.35°C(estimate)密度4.32g/mLat25°C(lit.)蒸氣壓3.8mmHg(25°C)閃點(diǎn)None儲(chǔ)存條件Storeat+2°Cto+8°C.溶解度可溶于乙腈(Chemicalbook少許)、DMSO(少許)形態(tài)晶體比重4.320顏色白色水溶解性Decomposesinwater.敏感性MoistureSensitiveMerck14,10072暴露限值A(chǔ)CGIH:TWA2.5mg/m3NIOSH:IDLH250mg/m3;TWA2.5mg/m3穩(wěn)定性穩(wěn)定的。與空氣、濕氣不相容。分解時(shí)釋放氟。與可燃材料接觸可能會(huì)引起火災(zāi)。(有時(shí)會(huì)在這種材料中發(fā)現(xiàn)痕量的四氟化氙。當(dāng)暴露在潮濕環(huán)境中時(shí),四氟化物可能會(huì)形成爆炸性的三氧化氙。)InChIKeyIGELFKKMDLGCJO-UHFFFAOYSA-NCAS數(shù)據(jù)庫13709-36-9(CASDataBaseReference)EPA化學(xué)物質(zhì)信息Xenonfluoride(XeF2)(13709-36-9)二氟代氙用途與合成方法理化性質(zhì)二氟化氙(XeF2),又稱二氟代氙,分子量為169.30,是一種無色固體,在室溫下容易升華而形成透明晶體。二氟化氙在中性或堿性溶液中分解,在酸性溶液中較為穩(wěn)定,水溶液有刺激氣味。二氟化氙蒸汽是無色的,具有令人發(fā)嘔的惡臭。在電子工業(yè)中,XeF2常被用作硅的蝕刻氣體,由于XeF2和硅的化學(xué)反應(yīng)是自發(fā)反應(yīng),XeF2對(duì)硅的腐蝕工藝具有非常高的選擇性,在XeF2對(duì)硅進(jìn)行腐蝕過程中,XeF2氣體通過自由擴(kuò)散到硅襯底表面,并與最外層硅原子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氣態(tài)Xe和氣態(tài)SiF4,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)硅的腐蝕。用途非常有效的氟化劑。 |
結(jié)構(gòu)式: |
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聯(lián)系人: |
金經(jīng)理 |
地 址: |
湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)光谷大道03號(hào) |
郵 編: |
430000 |
電 話: |
18995560451 |
手 機(jī): |
15102708508 |
傳 真: |
18995560451 |
Q Q: |
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網(wǎng) 址: |
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